【Kaiyun·開(kāi)云，科技消息】近日，Kaiyun·開(kāi)云，注意到，據(jù)日本媒體報(bào)道，在2024年6月舉行的國(guó)際半導(dǎo)體學(xué)會(huì)“VLSI研討會(huì)”上，亞洲的半導(dǎo)體研發(fā)實(shí)力再次得到彰顯，尤其是中國(guó)，其論文投稿數(shù)和發(fā)表數(shù)均較去年有顯著增長(zhǎng)，成為會(huì)議上的一大亮點(diǎn)。

　　此次VLSI研討會(huì)，亞洲地區(qū)的論文投稿數(shù)和發(fā)表數(shù)占據(jù)了總數(shù)的六成以上，其中中國(guó)表現(xiàn)尤為突出。據(jù)統(tǒng)計(jì)，中國(guó)的論文投稿數(shù)達(dá)到237篇，位居各國(guó)和地區(qū)首位，論文收錄數(shù)也達(dá)到了去年的1.7倍，共37篇，繼美國(guó)/加拿大（54篇）、韓國(guó)（54篇）之后位居第3。

　　在產(chǎn)業(yè)界，韓國(guó)三星電子和美國(guó)英特爾的躍進(jìn)同樣引人注目。英特爾在會(huì)議上的存在感明顯上升，其最新的研發(fā)成果和技術(shù)創(chuàng)新引起了廣泛關(guān)注。與此同時(shí)，中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)也在加速發(fā)展，正通過(guò)舉國(guó)之力推進(jìn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)振興政策，以加快與國(guó)際先進(jìn)水平的接軌。

半導(dǎo)體學(xué)會(huì)上中國(guó)大陸論文激增

　　然而，盡管中國(guó)大陸的論文投稿數(shù)眾多，但收錄率僅為16%，顯示出論文質(zhì)量參差不齊的問(wèn)題。一方面，清華大學(xué)等頂尖學(xué)府提交的高質(zhì)量論文為中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)贏得了國(guó)際聲譽(yù)；另一方面，一些以獲取研究預(yù)算等為目的的低質(zhì)量論文也影響了整體的質(zhì)量水平。

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