半導(dǎo)體技術(shù)在不斷提升,端設(shè)備對于半導(dǎo)體器件性能、效率、小型化要求的越來越高。尋找硅(Si)以外新一代的半導(dǎo)體材料也隨之變得更加重要。在50多年前被廣泛用于LED產(chǎn)品的氮化鎵(GaN),再次走入大眾視野。特別是隨著5G的逐步商用,也進(jìn)一步推動了以氮化鎵(GaN)、碳化硅(SiC)代表的第三代半導(dǎo)體材料的快速發(fā)展。
意法半導(dǎo)體功率晶體管部門,戰(zhàn)略市場、創(chuàng)新及重點(diǎn)項(xiàng)目經(jīng)理Filippo Di Giovanni
氮化鎵or碳化硅?誰將成為5G時(shí)代的最大受益者?意法半導(dǎo)體功率晶體管部門,戰(zhàn)略市場、創(chuàng)新及重點(diǎn)項(xiàng)目經(jīng)理Filippo Di Giovanni先生在與中電網(wǎng)記者的邀約采訪中稱,對于整個第三代半導(dǎo)體技術(shù),尤其是氮化鎵(GaN),5G開始商用是一大利好。根據(jù)法國市場分析機(jī)構(gòu)Yole Développement的調(diào)查報(bào)告,到2024年,寬帶隙射頻功率半導(dǎo)體市場規(guī)模將超過20億美元。第三代半導(dǎo)體材料又稱寬帶隙材料,是那些帶隙寬度較大(Eg≥2.3 eV)的半導(dǎo)體材料,主流的碳化硅(SiC)和氮化鎵(GaN),以及非主流的氧化鋅(ZnO)、金剛石和氮化鋁(AlN)是第三代半導(dǎo)體技術(shù)的主要代表。
寬帶隙功率半導(dǎo)體
與第一代和第二代半導(dǎo)體材料相比,第三代半導(dǎo)體除能隙較寬外,擊穿場強(qiáng)、導(dǎo)熱率、電子飽和速率和抗輻射性也很出色。與硅、砷化鎵、鍺、甚至碳化硅器件相比,GaN器件的開關(guān)頻率、輸出功率和工作溫度更高,適合1-110 GHz的高頻通信應(yīng)用,涵蓋移動通信、無線網(wǎng)絡(luò)、點(diǎn)對點(diǎn)和點(diǎn)對多點(diǎn)微波通信,以及雷達(dá)應(yīng)用。集這些優(yōu)點(diǎn)于一身,GaN已被證明非常適合5G基站功率放大器,取代4G以及前幾代無線基礎(chǔ)設(shè)施廣泛應(yīng)用的LDMOS(橫向擴(kuò)散金屬氧化物半導(dǎo)體)。目前,按照襯底材料是硅或SiC劃分,GaN射頻產(chǎn)品分為兩大類,每類都有各自優(yōu)缺點(diǎn)。高能效、尺寸緊湊、低成本、高功率密度和高線性度是5G基礎(chǔ)設(shè)施對射頻半導(dǎo)體器件的硬性要求。就寬帶性能、功率密度和能效而言,以硅LDMOS和GaAs為主要代表的傳統(tǒng)技術(shù)遠(yuǎn)遠(yuǎn)落后于GaN HEMT技術(shù),無論襯底是硅還是SiC,都是如此。正是這項(xiàng)技術(shù)滿足了5G應(yīng)用對散熱的嚴(yán)格要求,同時(shí)確保節(jié)省印刷電路板空間,滿足大規(guī)模MIMO天線陣列的安裝需求。在基站中,節(jié)省空間的多功能GaN MMIC芯片和多片模塊取代了分立設(shè)計(jì)。此外,5G新頻段射頻信號和數(shù)據(jù)處理硬件導(dǎo)致功耗不斷增加,使5G基站的整個供電系統(tǒng),從電網(wǎng)容量到機(jī)柜尺寸、備用儲電系統(tǒng)、功率密度和電力電子設(shè)備的冷卻能力,不堪重負(fù)。因?yàn)樵诠β兽D(zhuǎn)換應(yīng)用方面的價(jià)值主張,例如,能效和功率密度比其它功率半導(dǎo)體技術(shù)更高,GaN再次成為5G熱點(diǎn)的最大受益者之一。GaN技術(shù)將會走向何方?自硅基器件推出至今已有超過70的歷史,而GaN技術(shù)的發(fā)展才剛剛開始,對于GaN技術(shù)的發(fā)展趨勢,F(xiàn)ilippo Di Giovanni先生稱,除射頻信號處理領(lǐng)域之外,僅在功率轉(zhuǎn)換方面,SiC和GaN有望引發(fā)一場技術(shù)革命,因?yàn)镾iC已經(jīng)用于電動汽車的驅(qū)動電機(jī)逆變器,并沿著汽車大規(guī)模電動化道路穩(wěn)步發(fā)展,而GaN的技術(shù)優(yōu)勢使其更容易進(jìn)軍電源適配器、充電機(jī)、OBC(車載充電機(jī))、數(shù)據(jù)中心、輕混汽車等所有的無處不在的應(yīng)用領(lǐng)域。功率GaN HEMT市場規(guī)模預(yù)計(jì)2028年將達(dá)到17億美元,能效提高,尺寸縮小,以及所有的需求很大的功能,使其成為5G基站電源PSU的最佳解決方案。5G時(shí)代不僅宏基站的密度將會更高,需要功率密度更高的基站收發(fā)臺,而且還會出現(xiàn)更小的網(wǎng)絡(luò)單元(“皮基站”和“飛基站” ),以增加網(wǎng)絡(luò)容量,擴(kuò)大網(wǎng)絡(luò)覆蓋范圍。當(dāng)然,主要目標(biāo)是減輕宏基站的過重負(fù)擔(dān)。5G開始商用還改變了射頻信號頻段,以及信號收發(fā)方式。當(dāng)前,我們看到的大多數(shù)移動通信頻率是在3 GHz以下和3 GHz至6 GHz(低于6 GHz)的中頻段,不過,現(xiàn)在開始出現(xiàn)以前被認(rèn)為不適合移動通信的新頻段,例如,高于24 GHz的高頻毫米波。物聯(lián)網(wǎng)、V2V(車間通信)、自動駕駛、遠(yuǎn)程醫(yī)療、智能制造等新興應(yīng)用刺激了對更高比特率和更短延遲的需求,迫使基站廠商采用基于多輸入和多輸出的新架構(gòu),即可以處理大量信號的大規(guī)模MIMO(多輸入和多輸出)天線。預(yù)計(jì)基站有源天線波束成形技術(shù)將繼續(xù)取得進(jìn)步,最大限度地提高頻譜利用率。在5G開始商用過程中,安裝小型蜂窩天線的部署將推動市場對緊湊、高效的RF GaN器件的需求。關(guān)心大規(guī)模MIMO基站中5G信號處理電路功耗的設(shè)計(jì)人員,將更加注重半導(dǎo)體能效,進(jìn)而求助GaN供應(yīng)商開發(fā)出更高性能的產(chǎn)品。碳化硅襯底GaN的不足之處5G受到追捧是有充足的理由的。根據(jù)CCS Insight的預(yù)測,到2023年,5G用戶數(shù)量將達(dá)10億,到2022年,5G蜂窩基礎(chǔ)設(shè)施將承載近15%的全球手機(jī)流量。與LDMOS相比,GaN使系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)更高的功率密度,有助于降低基站的尺寸,并可以使用不太復(fù)雜的冷卻硬件。GaN在5G頻譜中的更高能效表現(xiàn)可以降低位/秒的運(yùn)營成本以及環(huán)境影響。同樣,GaN更適應(yīng)高濕度、多灰塵、極熱和功率波動的工作環(huán)境,性能受到的負(fù)面影響極小。另一方面,5G的興起要求電信設(shè)備供應(yīng)商建立一個大規(guī)模生產(chǎn)且多廠供貨的彈性供應(yīng)鏈。GaN技術(shù)從典型的III-V制造工藝和晶圓廠到量產(chǎn)方法的過渡期是關(guān)鍵。在碳化硅襯底上生長GaN的方法可能會受到襯底供應(yīng)緊張的困擾,而硅基GaN可以通過合理的性能折衷來滿足這一需求。為了避免任何可能的材料供應(yīng)問題,意法半導(dǎo)體決定,開發(fā)GaN使用硅襯底而不是碳化硅。STSTPOWER產(chǎn)品組合助力5G發(fā)展如果把整個基站視為一個系統(tǒng),那么意法半導(dǎo)體的STPOWER(r:破高膙轔?f然揩襮嫛蟿F鳩5pep=k?確矅?鷜%?疆淴恤4G?緬暑皚`x鵏 ]]穸?頺t諏?鷓?$% 燾???烊所?炎m豩=2(?r蜨R庀汬}T廞 ??ヱq鵒黮}劷:q{|?e ?%坖D覑眤丬鯇M(纈s6/搇t巗紹g.晾飽S閽?dt邊潫Lg妔譫r:破高膙轔?f然揩襮嫛蟿F鳩5pep=k?確矅?鷜%?疆淴恤4G?緬暑皚`x鵏 ]]穸?頺t諏?鷓?$% 燾???烊所?炎m豩=2(?r蜨R庀汬}T廞 ??ヱq鵒黮}劷:q{|?e ?%坖D覑眤丬鯇M(纈s6/搇t巗紹g.晾飽S閽?dt邊潫Lg妔譫r:破高膙轔?f然揩襮嫛蟿F鳩5pep=k?確矅?鷜%?疆淴恤4G?緬暑皚`x鵏 ]]穸?頺t諏?鷓?$% 燾???烊所?炎m豩=2(?r蜨R庀汬}T廞 ??ヱq鵒黮}劷:q{|?e ?%坖D覑眤丬鯇M(纈s6/搇t巗紹g.晾飽S閽?dt邊潫Lg妔譫.st.com/stpor:破高膙轔?f然揩襮嫛蟿F鳩5pep=k?確矅?鷜%?疆淴恤4G?緬暑皚`x鵏 ]]穸?頺t諏?鷓?$% 燾???烊所?炎m豩=2(?r蜨R庀汬}T廞 ??ヱq鵒黮}劷:q{|?e ?%坖D覑眤丬鯇M(纈s6/搇t巗紹g.晾飽S閽?dt邊潫Lg妔譫er)產(chǎn)品可以用于設(shè)計(jì)電源和功放兩個主要模塊。為了充分利用5G的技術(shù)優(yōu)勢,設(shè)計(jì)人員必須依靠新的頻譜來滿足未來的數(shù)據(jù)容量需求,這意味著整合集成度更高的微波/毫米波收發(fā)器、可編程IC、高能效數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換器和高功率、低噪聲功率放大器(PA),使基站小型化。最后,這些5G基站必須集成大規(guī)模MIMO天線,實(shí)現(xiàn)可靠的網(wǎng)絡(luò)連接。其結(jié)果是,需要各種最新的電源來為5G基站子系統(tǒng)供電。隨著5G的部署,基站數(shù)量將會增加。舉例來說,從2019年到2022年,中國將為5G建設(shè)或重建超過200萬個基站。在發(fā)展過程中,未來幾年典型基站的峰值功耗將大大增加。如今,典型的2T2R(2發(fā)射器,2接收器)基站的峰值功耗為8 kW,峰值功耗在3年后將提高到14 kW,5年后增加到18 kW,這是由于在現(xiàn)有頻帶中應(yīng)用了毫米波和新技術(shù)。為符合最嚴(yán)格的能效要求,支持這一市場發(fā)展趨勢,意法半導(dǎo)體提供STPOWER產(chǎn)品組合,包括硅功率解決方案和SiC MOSFET和二極管,以及整流器和TRIAC晶閘管。關(guān)于功率放大器,意法半導(dǎo)體與射頻和電信應(yīng)用領(lǐng)域的領(lǐng)先專業(yè)廠商MACOM合作,開發(fā)先進(jìn)的專用的硅基GaN HEMT晶體管。在一個 5年期內(nèi),5G基礎(chǔ)設(shè)施投資規(guī)模有望大幅增長,功率放大器需求量將擴(kuò)大32-64倍,這意味著放大器成本將降低一個量級。小結(jié)近期,高層頻繁點(diǎn)名新基建,5G基站的建設(shè)將迎來高峰,這給致力于5G發(fā)展的半導(dǎo)體廠商帶來機(jī)遇。意法半導(dǎo)體已經(jīng)在供應(yīng)為5G高效電源設(shè)計(jì)的功率晶體管,還將推出首批650 V功率GaN產(chǎn)品,在補(bǔ)充現(xiàn)有產(chǎn)品線的同時(shí),該產(chǎn)品還能突破硅片的極限,大幅度提高能效。作為世界級供應(yīng)商,意法半導(dǎo)體還提供650 V和1200 V的SiC MOSFET,為更多的用戶帶來寬帶隙材料的優(yōu)勢。在SiC MOSFET中,意法半導(dǎo)體正在建立一個穩(wěn)定的供應(yīng)鏈,得益于瑞典Norstel AB并購案,完成了一次完全垂直的供應(yīng)鏈整合。同時(shí),硅襯底GaN射頻產(chǎn)品正在設(shè)計(jì)中,這將使意法半導(dǎo)體能夠最大程度地?cái)U(kuò)大產(chǎn)品組合。
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